400-677-0098
關鍵詞:化學氣相沉積爐CVD氣相沉積爐化學氣相沉積設備CVD系統
立式化學氣相沉積爐(沉積炭)
立式化學氣相沉積爐(沉積炭)
產品描述:
立式化學氣相沉積爐(沉積炭)用于以碳氫氣體(如C3H8、CH4等)為碳源的材料表面或基體的CVD/CVI處理
應用范圍:
炭/炭剎車盤、炭炭板材、晶體爐坩堝、熱壓模具、高溫發熱體/緊固件、熱場材料等

立式化學氣相沉積爐(沉積炭)技術特征

電阻爐可采用多溫區獨立控溫,溫度均勻性好;

采用智能壓力調控,壓力波動??;

全封閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強;

多通道工藝氣路,流程均勻,無沉積死角,沉積效果好;

多級高效尾氣處理系統,環境友好,能高效收集焦油及副產物,易清理;

可選配外循環快冷系統,降溫時間短,生產效率高;

立式化學氣相沉積爐(沉積炭)產品規格

參數\型號VCVD-0305-CVCVD-0608-CVCVD-0812-CVCVD-1120-CVCVD-1320-CVCVD-1520-C
工作區尺寸D×H(mm) Φ300×500Φ600×800Φ800×1200Φ1100×2000Φ1300×2000Φ1500×2000
最高溫度(℃) 1500 1500 1500 15001500 1500
溫度均勻性(℃) ±5/±10 ±7.5/±10 ±7.5/±15±10/±15±10/±15±10/±20
極限真空度(Pa) 1-100 1-100 1-100 1-1001-100 1-100
壓升率(Pa/h) 0.67 0.67 0.67 0.670.67 0.67
加熱方式電阻/感應電阻/感應電阻/感應電阻/感應電阻/感應電阻/感應

參數\型號VCVD-1822-CVCVD-2032-CVCVD-2632-CVCVD-3338-CVCVD-3344-C
工作區尺寸D×H(mm) Φ1800×2200Φ2000×3200Φ2600×3200Φ3300×3800Φ3300×44000
最高溫度(℃) 1500 1500 1500 15001500
溫度均勻性(℃)±15±15±15±20±20
極限真空度(Pa) 1-100 1-100 1-100 1-1001-100
壓升率(Pa/h) 0.67 0.67 0.67 0.670.67
加熱方式電阻電阻電阻電阻電阻

以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。

立式化學氣相沉積爐(沉積炭)配置選擇

結構形式:臥式-單開門/雙開門;立式-上出料/下出料

爐門鎖緊方式:手動/自動

爐殼材質:全碳鋼/內層不銹鋼/全不銹鋼

保溫材質:碳氈/石墨氈/碳纖維固化氈/陶瓷纖維氈

加熱器、馬弗:石墨/CFC/金屬

熱電偶:K/N/C/S分度號

電源:KGPS/IGBT(僅適用于中頻加熱)

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